2016-2020年中国三氟化氮（NF3）行业发展前景分析与机遇预测报告

第一章 三氟化氮产品概述      1

　　1.1 电子特种气体——三氟化氮概述 1

　　1.2 三氟化氮的产业与市场简述 1

　　　　1.2.1 三氟化氮的应用领域 1

　　　　1.2.2 三氟化氮的市场简况 2

　　　　1.2.3 三氟化氮的产业简况 2

　　1.3 三氟化氮行业的特点    2

　　　　1.3.1 行业兴衰与半导体、光伏、液晶显示产业发展有着关系密切     2

　　　　1.3.2 三氟化氮产品优势得到发挥     2

　　　　1.3.3 市场垄断性强     3

　　　　1.3.4 近年全球三氟化氮应用市场在迅速扩大 3

　　1.4 在当前环境保护要求的形势变化下三氟化氮产品发展前景成为变数    3

　　　　1.4.1 三氟化氮成为气候变化新威胁UNFCC已将其列入“监管”气体之中      3

　　　　1.4.2 三氟化氮替代产品得到发展     4

　　　　 

第二章 电子特种气体、氟化工品应用市场 5

　　2.1 电子特种气体概述 5

　　2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面 5

　　2.3 电子特种气体的纯净度要求 6

　　2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题    6

　　　　2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题 6

　　　　2.4.2 气体配送及供应问题 7

　　　　2.4.3 储存、使用中的安全性问题     9

　　　　2.4.4 成本性问题 9

　　2.5 国内外电子特种气体行业发展概述    10

　　　　2.5.1 境外电子特种气体生产与市场情况 10

　　　　2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展     10

　　2.6 氟化工产业概述    11

　　　　2.6.1 氟化工产业中的重要产品 11

　　　　2.6.2 我国氟化工产业发展情况 12

　　　　 

第三章 三氟化氮的主要特性  14

　　3.1 物理特性 14

　　3.2 毒性及危险性 14

　　3.3 反应性    15

　　3.4 相关的安全性 15

　　3.5 主要性能及标准    15

　　　　3.5.1 对纯度的一般质量指标要求     15

　　　　3.5.2 美国气体及化学产品公司的NF3的工业标准及产品不同等级标准要求    16

　　　　3.5.3 SEMI的三氟化氮标准       16

　　　　3.5.4 三氟化氮:我国国家标准（GB/T 21287-2011）      25

　　　　 

第四章 三氟化氮的主要生产工艺方法 26

　　4.1 NF3的制备方法     26

　　　　4.1.1 概述     26

　　　　4.1.2 直接化合法 26

　　　　4.1.3 氟和氟化氢铵法 26

　　　　4.1.5 电解法 27

　　4.2 NF3粗品纯化工艺加工  28

　　　　4.2.1 NF3粗品纯化工艺法的种类      28

　　　　4.2.2 低温精馏法 28

　　　　4.2.3 化学吸收法 29

　　　　4.2.4 化学转化法 29

　　　　4.2.5 选择吸附法 30

　　4.3 安全生产的问题    31

　　4.4 在半导体晶元工厂的供应系统    32

 

第五章 三氟化氮的主要应用领域概述 33

　　5.1 概述 33

　　5.2 三氟化氮在集成电路中的应用    33

　　　　5.2.1 集成电路芯片制程     33

　　　　5.2.2 化学气相沉积和气体应用 34

　　5.3 作为清洗剂、刻蚀剂在半导体制造中的应用    34

　　　　5.3.1 替代PFC作为清洗剂 34

　　　　5.3.2 等离子增强化学气相沉积（PECVD）    35

　　　　5.3.3 在PECVD的干刻蚀、清洗加工中的应用      35

　　5.4 高纯NF3在薄膜硅太阳电池中的应用       35

　　　　5.4.1 非晶硅薄膜太阳能电池     35

　　　　5.4.2 Si薄膜的材料特性     36

　　　　5.4.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用     39

　　5.5 用三氟化氮作氟化剂    42

　　　　5.5.1 六氟化钨的理化性质及用途     42

　　　　5.5.2 NF3是制造WF6 42

　　　　5.5.3 世界WF6 的生产现况      42

　　　　5.5.4 国内生产WF6的情况       42

　　5.6 三氟化氮作为氟源在化学激光器中应用    43

　　5.7 NF3在IC和TFT-LCD应用市场扩展的三阶段  43

　　5.8 NF3在不同应用领域中应用量的比例  44

　　　　 

第六章 世界及我国NF3的半导体市场调查与分析   45

　　6.1 世界半导体硅片生产与市场发展 45

　　　　6.1.1 世界半导体生产的现况     45

　　　　6.1.2 世界半导体硅片的生产状况     45

　　6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展    46

　　　　6.2.1 我国集成电路市场、产业发展现状 46

　　　　6.2.2 我国集成电路晶圆制造业情况 47

　　　　6.2.3 我国集成电路晶圆主要生产厂家情况     47

　　　　 

　　　　 

第七章 世界及我国NF3的液晶显示器市场调查与分析   49

　　7.1 世界平板显示器产业发展现况    49

　　7.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测 50

　　　　7.2.1 我国液晶显示产业发展概述     50

　　　　7.2.2 我国LCD面板生产现况与未来几年发展预测       51

　　　　7.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析     55

　　　　 

第八章 世界及我国NF3的薄膜硅太阳电池市场调查与分析  57

　　8.1 国内外光伏产业的发展 57

　　　　8.1.1 世界光伏产业的快速发展 57

　　　　8.1.2 我国光伏产业发展环境与现况 58

　　8.2 薄膜太阳能电池的生产与市场    61

　　　　8.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种     61

　　　　8.2.2 薄膜太阳能电池未来市场发展前景 62

　　　　8.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化 63

　　8.3 国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业    63

　　　　8.3.1 境外薄膜太阳能电池生产厂家概况 63

　　　　8.3.2 国内薄膜太阳能电池生产厂家概况 65

　　　　 

第九章 世界NF3的生产现状与发展     67

　　9.1 概述 67

　　9.2 世界三氟化氮生产现况 67

　　9.3 美国的NF3生产现状与厂家       67

　　　　9.3.1 美国AP公司      67

　　　　9.3.2 杜邦公司     67

　　9.4 日本的NF3生产现状与厂家       69

　　　　9.4.1 关东电化工业公司     69

　　　　9.4.2 三井化学公司     69

　　　　9.4.3 中央玻璃公司     69

　　9.5 韩国的NF3生产现状与厂家       69

　　9.6 台湾的NF3生产现状与厂家       70

　　　　 

第十章 我国国内NF3的生产现状与发展    72

　　10.1 国内NF3生产的发展  72

　　10.2 国内NF3生产需求市场     72

　　10.3 国内NF3的主要生产厂家  73

　　　　10.3.1 国内NF3的生产厂家概述      73

　　　　10.3.2 山东飞源科技有限公司   73

　　　　10.3.3 黎明化工研究设计院有限责任公司       74

　　　　10.3.4 中国船舶重工集团第七一八研究所       76

　　　　10.3.5 其它厂家   77

　　10.4 国内与NF3气体相关的科研、协会机构  77

 

图表目录

图表：电子气体纯度标准    6

图表：三氟化氮的物理性质       14

图表：三氟化氮的主要技术指标       16

图表：三氟化氮标准    16

图表：纯度99.98%      17

图表：化学技术要求    17

图表：物理常数    17

图表：温度    18

图表：温度    19

图表：燃料气体    20

图表：温度    20

图表：温度    21

图表：校准浓度    24

图表：三氟化氮NF3气体产品质量标准   25

图表：国内外企业在中国申请或授权关于三氟化氮生产方法的12项专利  28

图表：低温精馏过程示意图       29

图表：色谱分离气体流程图       31

图表：特殊气体供应流程图       32

图表：单晶、多晶与非晶的区别       38

图表：内联式单结非晶硅电池内部结构示意图       39

图表：内联式双结非晶硅电池内部结构示意图       39

图表：2015年世界硅片生产布局情况      45

图表：2015年中国液晶显示板出口量统计表   50

图表：中国大陆面板产能占比及预测       51

图表：中国电视面板主要由国外企业供应       52

图表：2010-2015年3D显示主要应用市场占比      53

图表：2014-2016年中国液晶电视销量及增速  54

图表：2014-2016年中国液晶电视内销及增速  54

图表：2014-2016年中国液晶电视出口及增速  55

图表：2013-2015年中国平板显示产业扶持政策     56

图表：2008-2014年全球多晶硅产量和增长情况     57

图表：2008-2014年全球光伏组件产量和增长情况  58

图表：2008-2014年全球新增光伏装机量发展情况  58

图表：2010-2015年中国太阳能光伏发电逐年装机容量  59

图表：2015年中国累计光伏容量超过100万千瓦的省区       60

图表：2010-2015年中国光伏发电逐年新增容量     60

图表：山东飞源科技有限公司产品指标    73

图表：贮存与运输       74

图表：组织构架    76

略……

　　三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

　　中国是一个半导体产业、光伏产业、显示器产业生产及应用的大国，在发展这些新兴产业的同时，必不可缺少的需要发展它所用的NF3。半个多世纪以来，中国国内企业在NF3的开发生产方面相当薄弱，在中国的多个应用领域中所使用的NF3，很大部分还依赖从国外进口，发展中国高纯度制造业已经成为当务之急、势在必行。

　　据统计，目前15%-20%的三氟化氮在液晶显示器市场中用于清洗剂；65%-70%的三氟化氮用于半导体清洗和蚀刻。三氟化氮是超大规模集成电路液晶显示器件、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少基础性支撑原材料，液晶显示器的快速发展成为三氟化氮需求的主要推动力，三氟化氮目前无论在世界上，还是我国国内，都有着很大发展空间。光伏产业近几年得到高速发展，光伏化学品也迎来大发展时代。

　　我国三氟化氮产业发展大体上分三个阶段:最早是用于国防工业，主要是少量生产自用；其次是上世纪末随着经济的发展，三氟化氮产业化的研究迅猛发展，电子工业用三氟化氮相继问世；第三个阶段是近年在电子工业迅猛发展的推动下，国内三氟化氮的生产线相继投产，其制造水平已与国外发达国家水平相当。迄至2016年8月国内三氟化氮产能约5600t/a，扩产计划8000t/a。三胜咨询预测2020年前国内三氟化氮产能约14000t/a。

　　虽然NF3市场竞争日趋激烈，但是随着半导体工业及液晶显示器的增长，其消费市场将不断扩大。总的来说，未来NF3 仍将是紧缺特种气体的产品，虽然激烈的竞争将导致产品价格会有一定程度的下跌，但幅度不会太大，其仍有较大的利润空间。

　　本报告利用三胜产业研究中心长期对三氟化氮（NF3）行业市场跟踪搜集的一手市场数据，同时依据国家统计局、国家商务部、国家发改委、国务院发展研究中心、中国工业气体工业协会、中国石油和化学工业联合会、国家能源局、、中国产业信息研究网、全国及海外专业研究机构提供的大量权威资料，采用与国际同步的科学分析模型，全面而准确地为您从行业的整体高度来架构分析体系。让您全面、准确地把握整个三氟化氮（NF3）行业的市场走向和发展趋势。

　　报告对中国三氟化氮（NF3）行业的内外部环境、行业发展现状、产业链发展状况、市场供需、竞争格局、标杆企业、发展趋势、机会风险、发展策略与投资建议等进行了分析，并重点分析了我国三氟化氮（NF3）行业将面临的机遇与挑战。报告将帮助三氟化氮（NF3）企业、学术科研单位、投资企业准确了解三氟化氮（NF3）行业最新发展动向，及早发现三氟化氮（NF3）行业市场的空白点，机会点，增长点和盈利点……准确把握三氟化氮（NF3）行业未被满足的市场需求和趋势，有效规避三氟化氮（NF3）行业投资风险，更有效率地巩固或者拓展相应的战略性目标市场，牢牢把握行业竞争的主动权。形成企业良好的可持续发展优势。