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2022-2027年中国光刻机行业市场调查研究及发展前景预测报告

  • 报告编码:SS646610 首次出版:2022年1月 修订时间:每季度更新
  • 报告页码:200页 图表数量:40个
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报告导读
  • 本报告由三胜产业研究中心专家领衔撰写,主要分析了光刻机行业的生命周期、市场规模、运行数据、竞争格局、重点企业经营状况及市场份额、光刻机行业面临的挑战与机遇等,同时对光刻机行业的发展趋势做出了科学的预测,报告将帮助用户全面厘清光刻机产业战略方向。
  • 报告目录
  • 内容简介

第一章 光刻机行业发展综述  1

  1.1 光刻机行业定义及分类 1

    1.1.1 行业定义     1

    1.1.2 行业主要产品分类     1

    1.1.3 行业主要商业模式     1

  1.2 光刻机行业特征分析    2

    1.2.1 产业链分析 2

    1.2.2 光刻机行业在国民经济中的地位     2

    1.2.3 光刻机行业生命周期分析 3

      1、行业生命周期理论基础  3

      2、光刻机行业生命周期     4

  1.3 最近3-5年中国光刻机行业经济指标分析  4

    1.3.1 赢利性 4

    1.3.2 成长速度     5

    1.3.3 附加值的提升空间     5

    1.3.4 进入壁垒     6

    1.3.5 行业周期     6

    1.3.6 竞争激烈程度指标     7

    1.3.7 行业及其主要子行业成熟度分析     7

     

第二章 光刻机行业运行环境分析  9

  2.1 光刻机行业政治法律环境分析    9

    2.1.1 行业管理体制分析     9

    2.1.2 行业主要法律法规     9

    2.1.3 行业相关发展规划     10

  2.2 光刻机行业经济环境分析    13

    2.2.1 国际宏观经济形势分析     13

    2.2.2 国内宏观经济形势分析     20

    2.2.3 产业宏观经济环境分析     24

  2.3 光刻机行业社会环境分析    24

    2.3.1 光刻机产业社会环境 24

    2.3.2 社会环境对行业的影响     25

    2.3.3 光刻机产业发展对社会发展的影响 25

  2.4 光刻机行业技术环境分析    26

    2.4.1 光刻机技术分析 26

    2.4.2 光刻机技术发展水平 27

    2.4.3 行业主要技术发展趋势     28

     

第三章 我国光刻机行业运行分析  32

  3.1 我国光刻机行业发展状况分析    32

    3.1.1 我国光刻机行业发展阶段 32

    3.1.2 我国光刻机行业发展总体概况 34

    3.1.3 我国光刻机行业发展特点分析 35

  3.2 2019-2021年光刻机行业发展现状       35

    3.2.1 2019-2021年我国光刻机行业市场规模    35

    3.2.2 2019-2021年我国光刻机行业发展分析    36

    3.2.3 2019-2021年中国光刻机企业发展分析    37

  3.3 区域市场分析 39

    3.3.1 区域市场分布总体情况     39

    3.3.2 2019-2021年重点省市市场分析       39

  3.4 光刻机细分产品/服务市场分析   41

    3.4.1 细分产品/服务特色    41

    3.4.2 2019-2021年细分产品/服务市场规模及增速   41

  3.5 光刻机产品/服务价格分析   44

    3.5.1 2019-2021年光刻机价格走势    44

    3.5.2 影响光刻机价格的关键因素分析     45

      1、研发成本  45

      2、供需情况  45

    3.5.3 2022-2027年光刻机产品/服务价格变化趋势   45

    3.5.4 主要光刻机企业价位及价格策略     45

     

第四章 我国光刻机行业供需形势分析 47

  4.1 光刻机行业供给分析    47

    4.1.1 2019-2021年光刻机行业供给分析    47

    4.1.2 2022-2027年光刻机行业供给变化趋势    48

    4.1.3 光刻机行业区域供给分析 48

  4.2 2019-2021年我国光刻机行业需求情况       48

    4.2.1 光刻机行业需求市场 48

    4.2.2 光刻机行业客户结构 54

    4.2.3 光刻机行业需求的地区差异     55

  4.3 光刻机市场应用及需求预测 55

    4.3.1 光刻机应用市场总体需求分析 55

      1、光刻机应用市场需求特征     55

      2、光刻机应用市场需求总规模  56

    4.3.2 2022-2027年光刻机行业领域需求量预测       58

      1、2022-2027年光刻机行业领域需求产品/服务功能预测      58

      2、2022-2027年光刻机行业领域需求产品/服务市场格局预测      59

    4.3.3 重点行业光刻机产品/服务需求分析预测       60

     

第五章 光刻机行业产业结构分析  61

  5.1 光刻机产业结构分析    61

    5.1.1 市场细分充分程度分析     61

    5.1.2 各细分市场领先企业排名 61

    5.1.3 各细分市场占总市场的结构比例     62

  5.2 产业价值链条的结构分析及产业链条的整体竞争优势分析    62

    5.2.1 产业价值链条的构成 62

    5.2.2 产业链条的竞争优势与劣势分析     63

  5.3 产业结构发展预测 64

    5.3.1 产业结构调整指导政策分析     64

    5.3.2 产业结构调整中消费者需求的引导因素 64

    5.3.3 中国光刻机行业参与国际竞争的战略市场定位     64

    5.3.4 产业结构调整方向分析     65

     

第六章 我国光刻机行业产业链分析     66

  6.1 光刻机行业产业链分析 66

    6.1.1 产业链结构分析 66

    6.1.2 主要环节的增值空间 66

    6.1.3 与上下游行业之间的关联性     67

  6.2 光刻机上游行业分析    67

    6.2.1 光刻机产品成本构成 67

    6.2.2 2019-2021年上游行业发展现状       68

    6.2.3 2022-2027年上游行业发展趋势       90

    6.2.4 上游供给对光刻机行业的影响 92

  6.3 光刻机下游行业分析    92

    6.3.1 光刻机下游行业分布 92

    6.3.2 2019-2021年下游行业发展现状       92

    6.3.3 2022-2027年下游行业发展趋势       98

    6.3.4 下游需求对光刻机行业的影响 100

     

第七章 荷兰光刻巨头崛起对我国发展核心技术的启示   101

  7.1 ASML企业发展背景      101

    7.1.1 坚持产品代际革新获得技术垄断地位     101

    7.1.2 构建外延研发网络奠定初期技术基础     101

    7.1.3 研发浸润式微影设备获得重大技术突破 101

    7.1.4 借力攻关EUV设备形成全球技术垄断   102

  7.2 ASML发展核心技术的主要经验  102

    7.2.1 保持稳定战略目标适时推动产品更新     102

    7.2.2 模块高度采购外包专注关键技术攻关     103

    7.2.3 打造上下游利益链形成稳定利益共同体 103

    7.2.4 建立开放研究网络合理共享研发成果     103

  7.3 对我国产业发展核心技术的启示 104

    7.3.1 分类施策,视不同情况选择技术发展模式     104

    7.3.2 使优者联立,构建多主体深度合作的战略创新联盟     104

    7.3.3 促强者恒强,建立以核心企业为主导的产业技术链     104

    7.3.4 优化政策环境,建立技术创新协同服务平台 105

     

第八章 我国光刻机行业竞争形势及策略     106

  8.1 行业总体市场竞争状况分析 106

    8.1.1 光刻机行业竞争结构分析 106

      1、现有企业间竞争     106

      2、潜在进入者分析     107

      3、替代品威胁分析     107

      4、供应商议价能力     107

      5、客户议价能力  107

      6、竞争结构特点总结  108

    8.1.2 光刻机行业企业间竞争格局分析     108

    8.1.3 光刻机行业集中度分析     109

    8.1.4 光刻机行业SWOT分析    109

  8.2 中国光刻机行业竞争格局综述    113

    8.2.1 光刻机行业竞争概况 113

      1、中国光刻机行业竞争格局     113

      2、光刻机行业未来竞争格局和特点  113

      3、光刻机市场进入及竞争对手分析  114

    8.2.2 中国光刻机行业竞争力分析     114

      1、我国光刻机行业竞争力剖析  114

      2、我国光刻机企业市场竞争的优势  115

      3、国内光刻机企业竞争能力提升途径     115

     

第九章 光刻机行业领先企业经营形势分析 116

  9.1 荷兰ASML公司    116

    9.1.1 企业概况     116

    9.1.2 企业优势分析     116

    9.1.3 产品/服务特色    117

    9.1.4 2019-2021年经营状况       118

    9.1.5 2022-2027年发展规划       119

  9.2 日本佳能公司 119

    9.2.1 企业概况     119

    9.2.2 企业优势分析     121

    9.2.3 产品/服务特色    121

    9.2.4 2019-2021年经营状况       122

    9.2.5 2022-2027年发展规划       123

  9.3 日本尼康公司 124

    9.3.1 企业概况     124

    9.3.2 企业优势分析     124

    9.3.3 产品/服务特色    125

    9.3.4 2019-2021年经营状况       125

    9.3.5 2022-2027年发展规划       126

  9.4 上海微电子装备(集团)股份有限公司    126

    9.4.1 企业概况     126

    9.4.2 企业优势分析     127

    9.4.3 产品/服务特色    128

    9.4.4 2019-2021年经营状况       128

    9.4.5 2022-2027年发展规划       128

  9.5 SUSSMicroTec集团       129

    9.5.1 企业概况     129

    9.5.2 企业优势分析     130

    9.5.3 产品/服务特色    130

    9.5.4 2019-2021年经营状况       131

    9.5.5 2022-2027年发展规划       131

  9.6 美国维易科(Veeco)公司   132

    9.6.1 企业概况     132

    9.6.2 企业优势分析     132

    9.6.3 产品/服务特色    133

    9.6.4 2019-2021年经营状况       133

    9.6.5 2022-2027年发展规划       133

     

第十章 2022-2027年光刻机行业投资前景    134

  10.1 2022-2027年光刻机市场发展前景     134

    10.1.1 2022-2027年光刻机市场发展潜力  134

    10.1.2 2022-2027年光刻机市场发展前景展望  136

  10.2 2022-2027年光刻机市场发展趋势预测     138

    10.2.1 2022-2027年光刻机行业发展趋势  138

    10.2.2 2022-2027年光刻机市场规模预测  139

    10.2.3 2022-2027年光刻机行业应用趋势预测  139

  10.3 影响企业生产与经营的关键趋势      140

    10.3.1 市场整合成长趋势   140

    10.3.2 需求变化趋势及新的商业机遇预测       140

    10.3.3 企业区域市场拓展的趋势       141

    10.3.4 科研开发趋势及替代技术进展       141

    10.3.5 影响企业销售与服务方式的关键趋势   143

     

第十一章 2022-2027年光刻机行业投资机会与风险   144

  11.1 光刻机行业投融资情况      144

    11.1.1 行业资金渠道分析   144

    11.1.2 固定资产投资分析   149

    11.1.3 兼并重组情况分析   150

  11.2 2022-2027年光刻机行业投资机会     151

    11.2.1 产业链投资机会       151

    11.2.2 细分市场投资机会   152

  11.3 2022-2027年光刻机行业投资风险及对策  152

     

第十二章 光刻机行业投资战略研究     155

  12.1 光刻机行业发展战略研究   155

    12.1.1 战略综合规划   155

    12.1.2 技术开发战略   158

    12.1.3 业务组合战略   162

    12.1.4 区域战略规划   164

    12.1.5 产业战略规划   165

    12.1.6 营销品牌战略   165

    12.1.7 竞争战略规划   166

  12.2 对我国光刻机品牌的战略思考   169

    12.2.1 光刻机品牌的重要性       169

    12.2.2 光刻机实施品牌战略的意义   170

    12.2.3 光刻机企业品牌的现状分析   171

    12.2.4 我国光刻机企业的品牌战略   171

    12.2.5 光刻机品牌战略管理的策略   172

  12.3 光刻机经营策略分析   176

    12.3.1 光刻机市场细分策略       176

    12.3.2 光刻机市场创新策略       178

    12.3.3 品牌定位与品类规划       179

    12.3.4 光刻机新产品差异化战略       180

  12.4 光刻机行业投资战略研究   182

    12.4.1 2019年光刻机行业投资战略   182

    12.4.2 2022-2027年光刻机行业投资战略  183

    12.4.3 2022-2027年细分行业投资战略     183

     

第十三章 研究结论及投资建议      185

  13.1 光刻机行业研究结论   185

  13.2 光刻机行业投资价值评估   186

  13.3 三胜光刻机行业投资建议   187

    13.3.1 行业发展策略建议   187

    13.3.2 行业投资方向建议   187

    13.3.3 行业投资方式建议   187

 

图表目录

图表:光刻机行业产业链    2

图表:行业生命周期示意图       3

图表:光刻机技术迭代历程       27

图表:2019-2021年我国光刻机行业销售规模  36

图表:2019-2021年中国EUV光刻机销售规模       41

图表:2019-2021年中国ArF光刻机销售规模 42

图表:2019-2021年中国ArFdry光刻机销售规模    42

图表:2019-2021年中国KrF光刻机销售规模 43

图表:2019-2021年中国i-line光刻机销售规模       43

图表:光刻机价格走势       44

图表:2019-2021年中国光刻机行业供给情况  47

图表:2022-2027年光刻机行业供给变化趋势  48

图表:2016-2020年全球与中国半导体销售额  49

图表:2019-2020年各地区半导体销售额  50

图表:2006-2020年全球半导体行业资本支出增速和全球半导体设备销售额增速基本一致     51

图表:台积电历史资本开支       52

图表:国内三大晶圆厂近三年资本开支    53

图表:国内三大晶圆厂2021年资本开支预测  54

图表:2019-2020年海关步进式光刻机进出口数据统计  56

图表:2019-2020年1-12月步进式光刻机进口量逐月数据图 57

图表:2019-2020年1-12月步进式光刻机进口金额逐月数据图    58

图表:光刻机产业市场细分充分程度       61

图表:2020年中国光刻机产业各细分市场占总市场的结构比例   62

图表:光刻机行业产业链结构    66

图表:全球光学镜头行业公司对比    89

图表:全球光源行业公司对比    90

图表:各厂商光刻机技术现状    106

图表:全球光刻机行业竞争格局       109

图表:2016-2020年ASML公司总营业收入及中国大陆营业收入情况 119

图表:半导体设备支撑了10倍大的芯片制造产业  136

图表:半导体计算的发展趋势    137

图表:未来芯片发展路线    138

图表:2022-2027年光刻机市场规模预测  139

图表:ASML对上游企业的整合历程       140

图表:EUV光刻机研发历程      142

图表:EUV光刻机发展规划      142

图表:战略规划的框架结构       158

图表:光刻机行业主要品牌       171

略……


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  2016年4月,清华大学牵头的02专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目成功通过验收,标志中国在双工件台系统上取得技术突破。2017年6月,中科院长春光机所牵头的02专项“极紫外光刻关键技术研究”项目通过验收,该项目成功研制了波像差优于0.75nmRMS的两款EUV光刻物镜系统,构建了EUV光刻曝光装置,国内首次获得EUV投影光刻32nm线宽的光刻胶曝光图形。2018年11月,中科院光电技术研究所承担的“超分辨光刻装备研制”项目通过验收,该装备在365nm光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22nm,项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线......

  然而,尽管多个光刻机项目取得成果并通过验收,这些技术在助力国产光刻机发展突破上也起到重要作用,但真正实现量产并应用于生产线上却又是另一回事,如上述超分辨光刻装备要想应用于芯片生产还需要攻克一系列技术难关,距离国际先进水平还相当遥远。目前,上海微电子装备的90nm光刻机仍代表着国产光刻机最高水平。

  第五代EUV光刻机是目前全球光刻机最先进水平,ASML是唯一一家可量产EUV光刻机的厂商。财报资料显示,2019年ASML出售了26台EUV光刻机,主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺。近期媒体报道称,目前ASML正在研发新一代EUV光刻机,主要面向3nm制程,最快将于2021年问世。

  而上海微电子装备方面,官网显示其目前量产的光刻机包括200系列光刻机(TFT曝光)、300系列光刻机(LED、MEMS、PowerDevices制造)、500系列光刻机(IC后道先进封装)、600系列光刻机(IC前道制造)。其中,用于IC前道制造用的600系列光刻机共有3款。上海微电子装备披露将于年底量产28nm的immersion式光刻机,在2021年至2022年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。

  中国半导体设备行业复苏,受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展,带动相关芯片的需求,2020年光刻机销售额增速稳定提升。伴随着物联网和5G市场高速发展,对芯片性能要求越来越高,对高性能光刻机设备需求也将进一步加大。近年来下游晶圆代工厂加速扩建产能,带动光刻机设备需求并有望持续增长。

  本报告由三胜咨询的资深专家和研究人员通过长期周密的市场调研,参考国家统计局、国家商务部、国家工信部、国家发展和改革委员会、中国电子专用设备工业协会、中国产业信息研究网、全国及海外专业研究机构提供的大量权威资料,并对多位业内资深专家进行深入访谈的基础上,通过与国际同步的市场研究工具、理论和模型撰写而成。是企业、学术科研单位、投资企业准确了解行业最新发展动态,把握市场机会,正确制定企业发展战略的必备参考工具,极具参考价值!
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